製作事例

キャリアボックス式真空蒸着装置

密閉式搬送ケースを使⽤しグローブボックスなどで前処理した基板を⼤気に曝すことなく
真空装置に接続し装置内に搬送した後、有機物や電極などの成膜処理を⾏います。
処理後の基板も⼤気に曝すことなくグローブボックスに戻すことが可能です。

仕様

試料基板サイズ:最⼤150㎜/処理枚数 1枚
排気性能:10E-4P台まで45分以内/到達5.0×10E-5Pa
PLCによる⾃動制御(タッチパネル操作)
ターボ分⼦ポンプ+ドライポンプ
抵抗加熱源:8源 4源/1電源×2セット

オプション

膜厚レートコントロール
⾃動搬送
特殊基板トレイ
基板加熱/冷却
電⼦銃、K-Cell